Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/9671
Повний запис метаданих
Поле DC | Значення | Мова |
---|---|---|
dc.contributor.author | Реков, Ю.В. | - |
dc.contributor.author | Червоный, И.Ф. | - |
dc.contributor.author | Кисарин, О.А. | - |
dc.contributor.author | Яркин, В.Н. | - |
dc.contributor.author | Куцова, В.З. | - |
dc.contributor.author | Егоров, С.Г. | - |
dc.date.accessioned | 2012-03-23T10:47:12Z | - |
dc.date.available | 2012-03-23T10:47:12Z | - |
dc.date.issued | 2010 | - |
dc.date.submitted | 2009 | - |
dc.identifier.citation | Наукові праці Донецького національного технічного університету. Серiя: металургія. Випуск: 12(177) - Донецьк: ДонНТУ. - 2009 | en_US |
dc.identifier.other | УДК 621.315.592 | - |
dc.identifier.uri | http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/9671 | - |
dc.description | The work has considered particulaties of silicon bases growth with diameter 6...10mm for future obtaining of polycrystalline silicon by hydrogen reducing method of chlorsilans. | en_US |
dc.description.abstract | Рассмотрены особенности выращивания кремниевых основ диаметром 6...10мм для последующего получения поликристаллического кремния методом водородного восстановления хлорсиланов. | en_US |
dc.publisher | Донецький національний технічний університет | en_US |
dc.subject | поликристаллический кремний,технология выращивания,водородное восстановление, хлорсилан,температурный градиент,механическая прочность | en_US |
dc.subject | polycrystalline silicon,growth technology,hydrogen reducing,chlorsilan,thermal gradient,mechanical strength | en_US |
dc.title | Особенности технологий кремниевых основ для получения поликристаллического кремния | en_US |
dc.title.alternative | The Features of Technology of Silicon Bases for Obtaining Polycrystalline Silicon | en_US |
dc.type | Article | en_US |
Розташовується у зібраннях: | 2010_Випуск 12(177) |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
242-250.pdf | 6,21 MB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.