Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/25028
Повний запис метаданих
Поле DC | Значення | Мова |
---|---|---|
dc.contributor.author | Уколов, А.И. | - |
dc.contributor.author | Надточий, В.А. | - |
dc.contributor.author | Калимбед, А.З. | - |
dc.contributor.author | Москаль, Д.С. | - |
dc.date.accessioned | 2014-03-11T07:55:40Z | - |
dc.date.available | 2014-03-11T07:55:40Z | - |
dc.date.issued | 2010 | - |
dc.identifier.citation | Уколов А.И. Надточий В.А. Калимбед А.З. Москаль Д.С. О применимости методик определения параметров рекомбинации носителей заряда к приповерхностным слоям полупроводника.// Пошуки і знахідки. СЕРІЯ: фіз. – мат. науки. Матеріали наукової конф.СДПУ – 2010, Слов’янськ, 2010 | en_US |
dc.identifier.uri | http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/25028 | - |
dc.description | In technologies of making of semiconductor devices used different methods of modification of приповерхностных layers of crystals, directionally changing their physical properties: alloying by admixtures, irradiation, polishing and mechanical, the particles of high energies polishing | en_US |
dc.description.abstract | В технологиях изготовления полупроводниковых приборов используются разные методы модификации приповерхностных слоев кристаллов, направленно изменяющих их физические свойства: легирование примесями, облучение частицами высоких энергий, шлифование и механическое полирование | en_US |
dc.language.iso | other | en_US |
dc.publisher | Пошуки і знахідки. СЕРІЯ: фіз. – мат. науки. Матеріали наукової конф.СДПУ – 2010, Слов’янськ, 2010. 88 – 94с. | en_US |
dc.subject | Методика | en_US |
dc.subject | Methodology | en_US |
dc.subject | рекомбинация | en_US |
dc.subject | recombination | en_US |
dc.subject | приповерхностный слой | en_US |
dc.subject | surface layer | en_US |
dc.subject | полупроводник | en_US |
dc.subject | semiconductor | en_US |
dc.title | О применимости методик определения параметров рекомбинации носителей заряда к приповерхностным слоям полупроводника. | en_US |
dc.type | Article | en_US |
Розташовується у зібраннях: | Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни" |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
О применимости методик определения параметров.pdf | 430,99 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.