Please use this identifier to cite or link to this item:
https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/25028
Title: | О применимости методик определения параметров рекомбинации носителей заряда к приповерхностным слоям полупроводника. |
Authors: | Уколов, А.И. Надточий, В.А. Калимбед, А.З. Москаль, Д.С. |
Keywords: | Методика Methodology рекомбинация recombination приповерхностный слой surface layer полупроводник semiconductor |
Issue Date: | 2010 |
Publisher: | Пошуки і знахідки. СЕРІЯ: фіз. – мат. науки. Матеріали наукової конф.СДПУ – 2010, Слов’янськ, 2010. 88 – 94с. |
Citation: | Уколов А.И. Надточий В.А. Калимбед А.З. Москаль Д.С. О применимости методик определения параметров рекомбинации носителей заряда к приповерхностным слоям полупроводника.// Пошуки і знахідки. СЕРІЯ: фіз. – мат. науки. Матеріали наукової конф.СДПУ – 2010, Слов’янськ, 2010 |
Abstract: | В технологиях изготовления полупроводниковых приборов используются разные методы модификации приповерхностных слоев кристаллов, направленно изменяющих их физические свойства: легирование примесями, облучение частицами высоких энергий, шлифование и механическое полирование |
Description: | In technologies of making of semiconductor devices used different methods of modification of приповерхностных layers of crystals, directionally changing their physical properties: alloying by admixtures, irradiation, polishing and mechanical, the particles of high energies polishing |
URI: | http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/25028 |
Appears in Collections: | Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни" |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
О применимости методик определения параметров.pdf | 430,99 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.