Please use this identifier to cite or link to this item: https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/25028
Title: О применимости методик определения параметров рекомбинации носителей заряда к приповерхностным слоям полупроводника.
Authors: Уколов, А.И.
Надточий, В.А.
Калимбед, А.З.
Москаль, Д.С.
Keywords: Методика
Methodology
рекомбинация
recombination
приповерхностный слой
surface layer
полупроводник
semiconductor
Issue Date: 2010
Publisher: Пошуки і знахідки. СЕРІЯ: фіз. – мат. науки. Матеріали наукової конф.СДПУ – 2010, Слов’янськ, 2010. 88 – 94с.
Citation: Уколов А.И. Надточий В.А. Калимбед А.З. Москаль Д.С. О применимости методик определения параметров рекомбинации носителей заряда к приповерхностным слоям полупроводника.// Пошуки і знахідки. СЕРІЯ: фіз. – мат. науки. Матеріали наукової конф.СДПУ – 2010, Слов’янськ, 2010
Abstract: В технологиях изготовления полупроводниковых приборов используются разные методы модификации приповерхностных слоев кристаллов, направленно изменяющих их физические свойства: легирование примесями, облучение частицами высоких энергий, шлифование и механическое полирование
Description: In technologies of making of semiconductor devices used different methods of modification of приповерхностных layers of crystals, directionally changing their physical properties: alloying by admixtures, irradiation, polishing and mechanical, the particles of high energies polishing
URI: http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/25028
Appears in Collections:Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни"

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
О применимости методик определения параметров.pdf430,99 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.