Please use this identifier to cite or link to this item: https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/25019
Title: Вплив термічних змін на дислокаційну структуру монокристалів LiF.
Authors: Нечволод, М.К.
Микита, Р.В.
Москаль, Д.С.
Уколов, О.І.
Калимбет, А.З.
Keywords: LiF
LiF
дислокація
distribution
відпал
annealing
термоциклічна обробка
thermal-cycle treatment
Issue Date: 2011
Publisher: Збірник науковіх праць фізико-математичного факультету СДПУ. [За матеріалами Всеукраїнської науково-практичної конференції "Актуальні питання науки і освіти"]. - Слов'янськ: СДПУ, 2011 - № 1 – 212 с. С 88 – 95
Citation: Нечволод М.К. Микита Р.В. Москаль Д.С. Уколов О.І. Калимбет А.З. Вплив термічних змін на дислокаційну структуру монокристалів LiF // Збірник науковіх праць фізико-математичного факультету СДПУ. [За матеріалами Всеукраїнської науково-практичної конференції "Актуальні питання науки і освіти"]. - Слов'янськ: СДПУ, 2011 - № 1 – 212 с.
Series/Report no.: УДК;539.3
Abstract: Встановлено аналітичну залежність щільності дислокацій у монокристалах LiF , як функція часу відпалу, що має експоненціальний вигляд. Попередній відпал зразків LiF приводить до збільшення мінімального числа термоциклів, при якому в кристалах спостерігається генерація нових одиничних дислокацій. Зазначено можливі фізичні механізми явищ, які спостерігаються під час відпалу й наступній термоциклічній обробці.
Description: Analytical dependence of closeness of distributions is set in the single-crystals of LiF, as a function of time of annealing that has an exponential kind. The previous annealing of standards of LiF results in the increase of minimum number of thermal cycle, at that there is a generation of new single distributions in crystals. The possible physical mechanisms of the phenomena, that is observed during annealing to next thermal-cycle treatment, are marked.
URI: http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/25019
Appears in Collections:Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни"



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.