Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/13289
Повний запис метаданих
Поле DC | Значення | Мова |
---|---|---|
dc.contributor.author | Костюк, Геннадий Игоревич | - |
dc.contributor.author | Бруяка, Ольга Олеговна | - |
dc.contributor.author | Кот, Николай Иванович | - |
dc.date.accessioned | 2012-05-09T16:28:20Z | - |
dc.date.available | 2012-05-09T16:28:20Z | - |
dc.date.issued | 2009 | - |
dc.identifier.citation | Костюк Г.И., Бруяка О.О., Кот Н.И. Комбинированная обработка на основе плазменно -ионного покрытия и ионной имплантации.// Вісті Академії інженерних наук України. Спеціальний випуск „Машинобудування та прогресивні технології”: наукове видання. С. 25-28 | en_US |
dc.identifier.uri | http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/13289 | - |
dc.description | Influence of modes of ionic processing on quality of a processable surface is investigated, the modes providing reception of a minimum quantity of drops on a surface and thin layers of the titan with TiС and TiО2 are received. The opportunity of creation of the combined processing is shown on the basis of ionic-beam and plasma-ionic processing | en_US |
dc.description.abstract | Исследовано влияние режимов ионной обработки на качество обрабатываемой поверхности с покрытием, получены режимы, обеспечивающие получение минимального количества капель на поверхности и тонкие слои титана с TiС и TiО2 (дифрактограммы с «Дрон-3М»). Показана возможность создания комбинированной обработки на основе ионно-лучевой и плазменно-ионной обработок. | en_US |
dc.language.iso | other | en_US |
dc.publisher | Харьков, 2009.-№1(38). | en_US |
dc.subject | Ионная обработка | en_US |
dc.subject | Ionic processing | en_US |
dc.subject | ионная бомбардировка | en_US |
dc.subject | ionic bombardment | en_US |
dc.subject | плазма | en_US |
dc.subject | plasma | en_US |
dc.title | Комбинированная обработка на основе плазменно -ионного покрытия и ионной имплантации | en_US |
dc.title.alternative | Combined processing on the basis of plasma - ion-plating and ionic implantacii | en_US |
dc.type | Article | en_US |
Розташовується у зібраннях: | Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни" |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
КОМБИНИРОВАННАЯ ОБРАБОТКА НА ОСНОВЕ ПЛАЗМЕННО ¬ИОННОГО ПОКРЫТИЯ И ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ.pdf | 856,27 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.