Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://ea.donntu.edu.ua/jspui/handle/123456789/10788
Назва: Особливості поверхневої дифузії у напівпровідниках
Інші назви: Features of surface diffusion in semiconductors
Автори: Уколов, О.І.
Любченко, І.В
Уколова, Ю.В.
Ключові слова: Дифузія
Diffusion
напівпровідник
semiconductor
поверхня
surface
Дата публікації: 2010
Видавництво: София. «Бял ГРАД БГ» ООД.
Бібліографічний опис: Уколов О.І., Любченко І.В, Уколова Ю.В. Особливості поверхневої дифузії у напівпровідниках//Материалы за 6 – а международна научна практична конференция, «Новини на научния про-грес», - 2010. Том 6. Технологии. Математика. Съвременни тено-логии на информации. Физика. Физическа култура и спорт. с. 69 - 71
Короткий огляд (реферат): В даній роботі зроблена теоретична оцінка енергії міграції вакансій у приповерхневих шарах кристала напівпровідника з урахуванням наявності механічних напружень та ультразвукового опромінення.
Опис: This work made a theoretical assessment of energy migration of vacancies in the сrystal semiconductor surface layers with the presence of mechanical stress and ultrasonic irradiation.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://ea.donntu.edu.ua/handle/123456789/10788
Розташовується у зібраннях:Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни"



Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.